RISES-CCP反应离子刻蚀机是一款等离子体多功能处理设备。设备能同时实现表面清洗改性、6英寸以下晶圆去胶、化学反应蚀刻、高分子等离子体聚合薄膜沉积设备，一台设备就能满足几台设备的功能。
设备采用不锈钢腔体，CCP耦合等离子放电，电极通入冷却水，可以长时间高功率运行。上电极多通道匀气系统结合气体流向合理布局，保证反应离子的均匀性。电场设计高功率密度放电形式，使电源在100W输出时自偏压最大能达到500V，能够实现高速率的刻蚀和去胶。采用射频一体机，结构紧凑，全程自动监测调整功率输出。智能化控制系统，运行界面各种工艺参数实时监测，一键启停操作简单，数字量通讯控制精准。这款多功能设备一定是您各项工艺试验的最佳选择。
